Plasma processing device

플라즈마 처리 장치

Abstract

마이크로파에 의해 가스를 여기(excitation)시켜 기판(G)을 플라즈마 처리하는 마이크로파 플라즈마 처리 장치(10)로서, 금속에 의해 형성된 처리 용기(100)와, 마이크로파를 출력하는 마이크로파원(900)과, 처리 용기(100)의 내벽에 면하여, 마이크로파원(900)으로부터 출력된 마이크로파를 처리 용기 내에 투과하는 제1 유전체(305)와, 처리 용기(100)의 내면에 설치되어, 처리 용기(100)의 내면을 따라서 전파(propagation)하는 마이크로파를 억제하는 제2 유전체(340)를 갖는다.

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